中国内存双雄“砸”630亿人民币,长鑫DDR5月产能达35万片

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长鑫存储(CXMT)与长江存储(YMTC)拟合计投入630亿人民币用于资本支出和产线扩产;若计划如期完成,2026年底长鑫存储的DRAM月产能将逼近35万片,与美光(Micron)同期预估的37.5万片仅差不到一成。

长鑫存储的DUV多重曝光路线

据报道,长鑫存储在无法获得EUV(极紫外线)曝光机的情况下,采用的解决方案是:改用旧型DUV(深紫外线)设备,结合多重曝光技术——即在同一晶圆上重复曝光多次,用增加制程步骤换取原本需要EUV才能实现的电路精细度。代价是更高的良率压力和单片生产成本;但换来的是能够出货的DDR5(8000 MT/s)和LPDDR5X存储模组,直接满足AI服务器市场的缺货需求。

此外,长鑫存储约12个月建成无尘室的效率,使其在全球设备交期延长的环境中形成时间差优势——在长鑫存储跑机台良率时,竞争对手可能仍在等待设备交付。

中国半导体设备本土化与技术分散

据报道,此次扩产对供应链格局的影响包括:中国半导体设备本土采购率目前约23.2%(超过70%的设备仍依赖进口);但长鑫存储2026年的采购预估将为本土供应商带来近100亿人民币的新业务,形成“市场养供应商、供应商反过来提升良率”的良性循环,进口依赖比例有望逐年降低。

在技术分散方面,中国政府正推动长鑫存储将DRAM技术IP(制程专利与工艺诀窍)转移给福建晋华、昇维旭与长江存储子公司新芯,旨在稀释美国制裁的单点打击效果,并为未来进入欧盟和美国市场做准备。

常见问题

长鑫存储如何在没有EUV设备的情况下生产先进的DDR5?

据报道,长鑫存储采用DUV(深紫外线)设备结合多重曝光技术,即在同一晶圆上重复曝光多次,以增加制程步骤换取更精细的电路;代价是更高的良率压力和单片成本,但使长鑫存储得以生产DDR5(8000 MT/s)和LPDDR5X存储模组,直接供应AI服务器市场。

长鑫存储2026年底的DRAM月产能与美光相比如何?

据分析师指出,若长鑫存储扩产计划如期完成,2026年底月产能将逼近35万片;美光同期预估月产能约37.5万片,差距不到一成(约6.7%)。长江存储NAND方面,满载后月产能预估突破17万片。具体数字以各公司官方财报和产业研究机构最新报告为准。

中国记忆体扩产对全球半导体设备市场有何影响?

据SEMI(国际半导体产业协会)预测,全球半导体设备市场将从2024年的1166亿美元增长至2027年的1556亿美元,整体市场规模在扩大;中国厂商的扩产计划也在这一增长中扮演重要角色,但全球三大记忆体厂商(三星、SK海力士、美光)同步加码资本支出,竞争态势持续激烈。

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