Intel рассматривает двустороннюю подачу питания для процесса 1,4 нм 14A, рисковое производство в 2028 году

Согласно BlockBeats, 5 июля компания Intel рассматривает возможность внедрения двусторонней архитектуры подачи питания для своего техпроцесса 14A класса 1,4 нм, чтобы конкурировать с TSMC и Samsung. Первоначально компания планировала использовать технологию обратной подачи питания PowerDirect в 14A, но теперь оценивает двусторонний подход, который использует как передний, так и задний слои металла. Техпроцесс Intel 14A нацелен на шаг M0 в 28 нанометров с плотностью микросхем в 1,3 раза выше, чем у 18A; последующий процесс 14A2 может достичь шага M0 в 21 нм за счет улучшений полуузла. Intel планирует выпустить версию 0,9 пакета проектирования техпроцесса 14A для внешних заказчиков в октябре 2026 года, с началом рискованного производства 14A в 2028 году и серийного производства в 2029 году.
Дисклеймер: Информация на этой странице может быть получена из источников третьих сторон и предоставляется только для ознакомления. Она не отражает взгляды или мнения Gate и не является финансовой, инвестиционной или юридической рекомендацией. Торговля виртуальными активами связана с высоким риском. Пожалуйста, не основывайте свои решения исключительно на данных этой страницы. Подробнее смотрите в Дисклеймере.
комментарий
0/400
Нет комментариев