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A Intel adota a próxima geração de litografia EUV High NA da ASML para a produção do Panther Lake

GateNews
Ações
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ASML0,17%
Segundo a ASML, a Intel começou a usar o equipamento de litografia EUV de nova geração com Alta Abertura Numérica (High NA) da ASML para produzir processadores de portáteis Panther Lake na terça-feira (15 de julho). A mudança sucede a ensaios experimentais que começaram em 2024, com a Intel agora a implementar a ferramenta avançada em produção em escala total para melhorar a eficiência da fabricação.
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