ASML apresenta a primeira máquina de litografia de grande campo de visão para embalagem avançada

Dados Jintian 11 de novembro: na 8ª Exposição Internacional de Importações, o fornecedor de equipamentos de semicondutores ASML apresentou alguns dos seus produtos e tecnologias de litografia de panorama completo. Entre eles, a máquina de litografia DUV inclui o TWINSCAN XT:260 e o TWINSCAN NXT:870B. A máquina de litografia TWINSCAN XT:260, uma máquina de litografia de linha i, é o primeiro sistema de litografia da ASML a servir o setor de encapsulamento avançado, oferecendo exposição de grande campo de visão e podendo aumentar a eficiência de produção em 4 vezes em comparação com os modelos existentes; o TWINSCAN NXT:870B, suportado por componentes ópticos atualizados e a mais recente plataforma de levitação magnética, pode alcançar uma produção de mais de 400 wafers por hora (wph).