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Intel adopta la litografía EUV de alta apertura numérica (High NA) de próxima generación de ASML para la producción de Panther Lake

2026-07-15 05:12:29

INTC-6,00%

ASML0,17%

De acuerdo con ASML, Intel comenzó a utilizar el equipamiento de litografía EUV de alta apertura numérica (High Numerical Aperture, High NA) de nueva generación de ASML para producir los procesadores de portátiles Panther Lake el martes (15 de julio). El movimiento sigue a ensayos experimentales que comenzaron en 2024, con Intel ahora desplegando la herramienta avanzada en fabricación a escala completa para mejorar la eficiencia de producción.

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