La dominación de la fabricación de chips EUV se ve cuestionada por las tecnologías emergentes de litografía para 2030

Según Forbes, la fabricación avanzada de chips podría verse interrumpida, ya que varias tecnologías emergentes de litografía se acercan a su comercialización para 2030. La litografía atómica utiliza haces de átomos grabados directamente sobre obleas de silicio y podría reducir las anchuras de línea de los chips entre 1 y 2 órdenes de magnitud por debajo de las capacidades actuales de EUV. La litografía de rayos X, con longitudes de onda inferiores a 1 nanómetro, teóricamente permitiría estructuras de transistores aún más precisas. Recientemente, Huawei anunció el desarrollo de una nueva arquitectura de semiconductores diseñada para fabricar chips avanzados para IA sin depender de la tecnología EUV, lo que demuestra el impulso de la industria hacia alternativas al método de litografía dominante actual.
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